半導体分野におけるウェーハ加工・製造能力の向上と小型化された電子部品への需要の増加が、予測期間中の世界のDUVリソグラフィシステム市場規模を押し上げると予想されます。アジア太平洋地域の産業は、同地域の家電、IoTベースの機器、産業用部品におけるセンサーやメモリーデバイスの需要の増加により、近い将来、安定したペースで成長すると思われます。
半導体分野の拡大が、主要な市場関係者に有利な機会をもたらすと予想される。5G、人工知能、IoTシステム向けにDUVリソグラフィシステムで製造されたチップの採用が増加し、今後数年間は市場成長にプラスの影響を与えると予測される。
市場紹介
深紫外光（DUV）リソグラフィーとは、半導体分野でシリコンウェーハに回路を形成するために用いられるフォトリソグラフィー技術の一つです。ウェーハ上の感光材料（フォトレジスト）にパターンを転写し、波長193nmまたは157nmの光で下地基板をエッチングして回路を形成する。
DUVリソグラフィーは、より小さく、より高密度のトランジスタの製造を容易にするため、半導体デバイスのスケーリングに不可欠です。このようなトランジスタは、メーカーがさまざまな半導体技術やノードを開発するのに役立っています。
リソグラフィーの進歩は、次世代電子機器の小型化において重要な役割を果たします。半導体ベンダーは、低消費電力で小型化された電子機器の開発に注力しています。このことが、今後数年間のDUVリソグラフィーシステム市場の成長に拍車をかけると思われます。
DUVリソグラフィシステムは、高度な小型化パッケージにおいて、高解像度と高精度で微細構造をパターニングするために使用されます。これは、ファンアウト・ウェハーレベル・パッケージ（FOWLP）やシステムインパッケージ（SiP）デバイスなど、高い相互接続密度を持つ3Dパッケージの作成に必要なものです。これらのパッケージは、複数の部品を1つのコンパクトなパッケージに統合することを可能にし、小型化、高性能化、低消費電力化といった現代のエレクトロニクスに求められる要求を満たすために極めて重要です。
DUV露光装置では、専用の光学系や照明系、専用フォトレジストを用いて、10nm以下の精度でパターンを形成します。また、これらの装置は、高度なパッケージングにおける非平面のパターニングやフィーチャーのアスペクト比の増加という課題にも対応することを目的としています。
小型化により、チップメーカーはより多くの構造をチップに搭載できるようになります。これにより、チップはより速く、より効率的になります。また、製造コストの削減にもつながります。したがって、堅牢で低コストのチップに対する需要の高まりが、近い将来、DUVリソグラフィーシステム市場の拡大に拍車をかけると予測されます。
先進的なリソグラフィ技術の導入は、半導体分野におけるウェハープロセスと製造能力の強化に貢献します。その結果、半導体デバイスの大型化が進み、高性能な電子機器の需要が高まる。
DUVリソグラフィーシステムは、より小さく、より高密度のトランジスタの製造を可能にし、現代の電子機器のニーズに応えるために重要です。ウェハ製造にDUVリソグラフィーを使用することで、半導体企業はより高性能・高機能なチップを製造することができます。このことが、今後数年間の市場拡大の原動力となることが予想されます。
ウェーハ製造能力とリソグラフィ技術の進歩により、半導体デバイスのコストが低下し、幅広い顧客が入手しやすくなっています。半導体業界のベンダーは、新しい製造プロセスの研究開発や既存設備の拡張に多額の投資を行っています。これが、近い将来、市場を牽引することになると思われます。
最新のDUVリソグラフィシステム市場動向によると、予測期間中、KrFタイプのセグメントが最大のシェアを占めると予想されています。KrF（フッ化クリプトン）リソグラフィーは、集積回路の製造に採用されています。KrFエキシマレーザーから発生する紫外線を利用して、マスクから感光材料を塗布した基板にパターンを転写する。
KrFリソグラフィーは、高解像度で微細なパターンを形成できるため、特に高度な集積回路の製造に適している。例えば、ハイパフォーマンスコンピューティングやモバイル機器など、高い計算能力を必要とする用途に見られるような、ハイエンドな性能を要求される最先端デバイスの製造に用いられることが多い。また、KrFリソグラフィーは、薄型テレビやモニター用のフォトマスクやディスプレイパネルの製造にも使用されています。
主要企業は、DUVリソグラフィ装置の市場シェアを拡大するために、新製品の投入に注力しています。2022年6月、キヤノン株式会社は、KrF半導体露光装置「FPA-6300ES6a」の新しい「グレード10」生産性アップグレードオプションを発表しました。このアップグレードにより、1時間あたり300枚のスループットが容易になります。
最新のDUVリソグラフィーシステム市場分析によると、予測期間中、ファウンドリーエンドユースは市場を支配していました。同セグメントは2022年に66.0%の主要シェアを占めています。
このセグメントの成長は、半導体ウェハーの生産量の増加に起因しています。DUVシステムは他のリソグラフィ技術よりも高いスループットを提供し、ファウンドリはより多くのデバイスを短時間で生産できるようになります。2020年には、TSMCとその子会社が管理する製造施設の年間生産能力は、12インチ換算で1,200万枚を突破しています。
2023年から2031年にかけて、アジア太平洋地域が最大のシェアを占めると予測されています。主要なリソグラフィーシステムメーカーとファウンドリーが存在するため、予測期間中、この地域の市場統計を後押しすると予想される。アジア太平洋地域では、台湾と韓国が業界の主要な成長エンジンとなっています。台湾は、2021年の半導体収益の約26.0%のシェアを占め、世界第2位にランクされています。
DUVリソグラフィシステムの採用はアメリカ大陸で高い。同地域は2022年に大きなシェアを占めた。高度な小型化ICパッケージの開発の急増は、近い将来、米州の市場ダイナミクスを高めると予測される。
世界の業界は統合されており、少数の大規模ベンダーが全シェアを支配しています。ほとんどの企業が新製品の研究開発に多額の投資を行っています。ASML、キヤノン、ニコンプレシジョンがこの分野の有力企業である。
これらの企業は、会社概要、財務概要、事業戦略、製品ポートフォリオ、事業セグメント、最近の動向などのパラメータに基づいて、DUVリソグラフィシステム業界レポートにおいて紹介されています。
主な動向
キヤノン株式会社は、2022年9月、半導体露光装置向けソリューションプラットフォーム「Lithography Plus1」を発売しました。リソグラフィシステムの状態、定期メンテナンスの結果、システムダウンの原因などを分析する機能などを搭載し、貴重な情報を提供します。
2021年10月、株式会社ニコンは、優れたオーバーレイ精度と超高スループットを実現する次世代ArF液浸スキャナ「NSR-S636E」を開発中であることを発表した
【目次】
1. はじめに
1.1. 市場紹介
1.2. 市場およびセグメントの定義
1.3. 市場分類法
1.4. 研究方法
1.5. 前提条件と頭字語
2. エグゼクティブサマリー
2.1. DUV露光装置の世界市場概要
2.2. 地域概要
2.3. 業界概要
2.4. マーケットダイナミクススナップショット
2.5. コンペティション・ブループリント
3. マーケットダイナミクス
3.1. マクロ経済要因
3.2. ドライバ
3.3. 制約事項
3.4. 機会（チャンス
3.5. 主なトレンド
3.6. 規制の枠組み
4. 関連産業と主要指標の評価
4.1. 親業界の概要 – 半導体業界の概要
4.2. サプライチェーン分析
4.3. プライシング分析
4.4. 技術ロードマップ分析
4.5. 業界SWOT分析
4.6. ポーターファイブフォース分析
4.7. COVID-19 影響と回復の分析
5. DUVリソグラフィ装置の種類別市場分析
5.1. DUVリソグラフィシステム市場規模（億米ドル）、数量（台数）分析・予測、種類別、2017-2031年
5.1.1. ArFイマージョン
5.1.2. ArFドライ
5.1.3. KrF
5.2. 市場魅力度分析、種類別
6. DUV露光装置市場のエンドユーザー別分析
6.1. DUVリソグラフィシステム市場規模（US$ Bn）分析・予測、エンドユーザー別、2017年〜2031年
6.1.1. IDM
6.1.2. ファウンドリー
6.2. 市場魅力度分析、エンドユーザー別
7. DUVリソグラフィシステム市場の分析と予測、地域別
7.1. DUVリソグラフィシステム市場規模（億米ドル）、数量（台数）分析・予測、地域別、2017-2031年
7.1.1. 米州
7.1.2. アジア太平洋地域
7.1.3. エメア
7.2. 市場魅力度分析、地域別
8. 米州DUVリソグラフィーシステム市場の分析と予測
8.1. 市場のスナップショット
8.2. 推進要因と抑制要因 影響度分析
8.3. DUVリソグラフィシステム市場規模（億米ドル）、数量（台数）分析・予測、種類別、2017年〜2031年
8.3.1. ArFイマージョン
8.3.2. ArFドライ
8.3.3. KrF
8.4. DUVリソグラフィシステム市場規模（US$ Bn）分析・予測、エンドユーザー別、2017年〜2031年
8.4.1. IDM
8.4.2. ファウンドリー
8.5. DUVリソグラフィシステム市場規模（億米ドル）、数量（台数）分析・予測、国別、サブ地域別、2017年〜2031年
8.5.1. 米国
8.5.2. その他の米州
8.6. 市場吸引力分析
8.6.1. 種類別
8.6.2. エンドユーザー別
8.6.3. 国別／サブリージョン別
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資料コード： TMRGL83455