市場規模
世界のフォトリソグラフィ装置市場規模は、2023年に148億米ドルに達しました。IMARC Groupは、今後、2032年までに市場規模が293億米ドルに達し、2024年から2032年の年間平均成長率（CAGR）は7.8%になると予測しています。
フォトリソグラフィとは、微細加工においてフィルムや基板に幾何学的なパターンを転写するプロセスを指します。このプロセスでは、紫外線（UV）の単一ビームを使用して集積回路（IC）にパターンをエッチングします。非常に効率的で費用対効果に優れ、極めて小さな切り込みを施すことができるため、ナノテクノロジーや顕微鏡レベルのコンピューターシステムの製造、および基板の正確なサイズや形状の制御に広く使用されています。現在、世界中で小型電子機器におけるフォトリソグラフィ装置の使用が増加しています。
フォトリソグラフィ装置市場の動向：
半導体業界における技術進歩は、市場を牽引する主要な要因のひとつです。さらに、世界中の接続ソリューションを改善するために、5G対応デバイスの需要が急増しています。これは、拡大する5Gインフラやデータセンター施設とともに、市場の成長を促進しています。さらに、スマートカー、スマートメーター、マシン・ツー・マシン（M2M）通信などの接続デバイスの需要の高まりにより、モノのインターネット（IoT）の普及も増加しています。 これにウェハー製造装置や材料への投資の増加が相まって、業界の投資家にとって有利な成長機会が生まれています。これに加えて、自動車、医療機器、家電製品、軍事および防衛機器、航空機、スマート家電製品などにおける集積回路（IC）の使用拡大も市場に好影響を与えています。さらに、主要な市場関係者は、全体的な製造コストと間接費を削減しながら、精度と生産能力の向上に重点的に取り組んでいます。また、これらの企業は、フォトリソグラフィプロセスを改善するための研究開発（R&D）活動にも大規模な投資を行っており、これにより全体的な売上と収益性の向上が見込まれています。
主な市場区分：
IMARC Groupは、世界のフォトリソグラフィ装置市場レポートの各サブセグメントにおける主な傾向の分析を提供しています。また、2024年から2032年までの世界、地域、国レベルでの予測も行っています。当社のレポートでは、プロセス、波長、デバイスの波長、用途、最終用途に基づいて市場を分類しています。
プロセス別内訳：
紫外線（UV）
深紫外線（DUV）
極紫外線（EUV）
波長別内訳：
70 nm～1 nm
270 nm～170 nm
370 nm～270 nm
装置波長別内訳：
レーザー生成プラズマ
エキシマレーザー
水銀ランプ
用途別内訳：
フロントエンド
バックエンド
最終用途別内訳：
IDM
ファウンドリ
地域別内訳：
北米
米国
カナダ
アジア太平洋地域
中国
日本
インド
韓国
オーストラリア
インドネシア
その他
ヨーロッパ
ドイツ
フランス
英国
イタリア
スペイン
ロシア
その他
ラテンアメリカ
ブラジル
メキシコ
その他
中東およびアフリカ
競合状況
業界の競合状況も、主要企業のプロファイルとともに調査されました。主要企業には、ASML Holding N.V., Canon Inc., Eulitha AG, EV Group, Holmarc Opto-Mechatronics Ltd., microfab Service GmbH, Neutronix Quintel, Nikon Corporation, NuFlare Technology Inc. (Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation), Orthogonal Inc., Osiris International GmbH, S-Cubed Inc.が挙げられます。
【目次】
1 はじめに
2 範囲と方法論
2.1 本調査の目的
2.2 利害関係者
2.3 データソース
2.3.1 一次ソース
2.3.2 二次ソース
2.4 市場推定
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主な業界動向
5 世界のフォトリソグラフィ装置市場
5.1 市場概要
5.2 市場実績
5.3 COVID-19の影響
5.4 市場予測
6 プロセス別市場内訳
6.1 紫外線（UV）
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 深紫外線（DUV）
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 極紫外線（EUV）
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
7 波長別市場規模
7.1 70 nm～1 nm
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 270 nm～170 nm
7.2.1 市場動向
7.2.2 市場予測
7.3 370 nm～270 nm
7.3.1 市場動向
7.3.2 市場予測
8 装置波長別市場規模
8.1 レーザー生成プラズマ
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 エキシマレーザー
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 水銀ランプ
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
9 用途別市場規模推移
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